研究报告

全球与中国CMP抛光液和抛光垫专精特新“小巨人”企业细分市场占有率专项调研报告

发布日期:2025-05-10页数:110图表数:125
报告编码:BJFL032104报告形式:交付时间:48-72h

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市场概况

根据百谏方略(DIResearch)的深入调查研究,2025年全球CMP抛光液和抛光垫市场规模将达到38.06亿美元,预计2032年达到71.15亿美元,年均复合增长率(CAGR)为9.35%(2025-2032)。在此期间,中国CMP抛光液和抛光垫市场经历了快速变化,截至2025年市场规模约为 亿美元,占全球市场的 %,预计到2032年将达到 亿美元,届时中国占全球市场份额为 %。

报告摘要

CMP(化学机械平坦化)抛光液和抛光垫是半导体制造工艺中的关键组成部分,用于在硅晶圆上形成平坦光滑的表面。该过程包括将晶圆放在旋转的抛光垫上,同时施加化学浆料。抛光液由悬浮在化学活性液体中的磨料颗粒组成,有助于去除晶圆表面的材料。磨料颗粒充当切削剂,而化学成分与材料发生反应并溶解材料。抛光垫在将抛光液均匀分布在晶圆表面并提供材料去除所需的机械力方面起着至关重要的作用。浆料和垫的结合确保了精确且受控的材料去除率,能够生产厚度均匀、表面光滑的高质量集成电路和微芯片。CMP 抛光液和抛光垫经过精心设计,可满足不同半导体工艺的特定要求,优化平坦化并实现先进半导体器件所需的表面光洁度。

全球CMP抛光液和抛光垫市场主要领先企业包括Entegris、Resonac日立化成、Fujimi Incorporated、DuPont、Merck KGaA (Versum Materials)、Fujifilm、AGC、KC Tech、JSR Corporation、安集微电子、Soulbrain、圣戈班、Ace Nanochem、东进世美肯、Ferro (UWiZ Technology)、捷斯奥集团、SKC、上海新安纳电子科技有限公司、鼎龙控股、北京航天赛德科技发展有限公司、富士纺、3M、FNS TECH、智勝科技、TWI Incorporated、KPX Chemical、深圳市川研科技有限公司、宁波江丰电子材料股份有限公司、天津市海伦晶片技术开发有限公司等。这份报告将全球企业竞争格局划分为三个梯队。第一梯队企业为全球头部企业,占据主要市场份额,在行业中处于领先地位、具有强大竞争力和影响力,收入规模较大;第二梯队企业在市场中有一定的份额和知名度,在产品、服务或技术创新方面积极追随行业领导者,收入规模处于中等水平;第三梯队企业在市场中占有较小的份额,品牌认知度较低,主要关注当地市场,收入规模相对较小。

百谏方略(DIResearch)通过自上而下(Top-down)和自下而上(Bottom-up)的方法研究全球与中国CMP抛光液和抛光垫的市场规模,价格走势及未来发展前景。重点分析全球与中国主要市场参与者的市场占有率、产品规格、价格、销售额与毛利率及全球与中国市场不同CMP抛光液和抛光垫产品类型与下游不同行业细分应用的市场趋势。报告数据涵盖历史数据为2020至2024年,基准年为2025年,预测数据为2026至2032年。

报告中地区及国家包括美国、德国、英国、荷兰、法国、以色列、中国、日本、韩国和中国台湾等地区,涵盖对重点地区及国家CMP抛光液和抛光垫的市场行情及未来发展趋势,结合行业相关政策和最新技术发展,对各地区及国家CMP抛光液和抛光垫行业的发展特点进行分析,帮助企业洞悉各区域发展特色,帮助企业制定商业策略,实现企业全球化发展战略的终极目标。

本报告的数据来源主要包含国家统计局,海关数据库,行业协会,企业财报,第三方数据库等。其中宏观经济数据主要来自国家统计局,国际经济研究组织等;部分行业统计数据主要来自行业协会;企业数据主要来自于访谈,公开信息整理,第三方可靠数据库等,价格数据主要来自于各类市场监测数据库。

本报告包括以下CMP抛光液和抛光垫主要市场参与者:

Entegris

Resonac日立化成

Fujimi Incorporated

DuPont

Merck KGaA (Versum Materials)

Fujifilm

AGC

KC Tech

JSR Corporation

安集微电子

Soulbrain

圣戈班

Ace Nanochem

东进世美肯

Ferro (UWiZ Technology)

捷斯奥集团

SKC

上海新安纳电子科技有限公司

鼎龙控股

北京航天赛德科技发展有限公司

富士纺

3M

FNS TECH

智勝科技

TWI Incorporated

KPX Chemical

深圳市川研科技有限公司

宁波江丰电子材料股份有限公司

天津市海伦晶片技术开发有限公司

按照不同类型,本报告将CMP抛光液和抛光垫产品细分为:

CMP抛光液

CMP抛光垫

按照不同应用,本报告将CMP抛光液和抛光垫产品下游应用划分为:

300毫米晶圆

200毫米晶圆

其他


报告章节内容

第1章:产品统计范围、产品类型及应用,市场总体概况,现状及趋势等

第2章:全球CMP抛光液和抛光垫行业PESTEL分析

第3章:全球CMP抛光液和抛光垫行业波特五力分析

第4章:全球主要国家电子半导体产业发展概况

第5章:全球及中国CMP抛光液和抛光垫主要地区市场规模及预测分析

第6章:全球及中国CMP抛光液和抛光垫主要企业竞争分析,主要包括CMP抛光液和抛光垫收入、市场占有率和地区分布及行业集中度分析

第7章:全球及中国不同产品类型CMP抛光液和抛光垫收入及占比份额趋势等

第8章:全球CMP抛光液和抛光垫主要企业基本情况介绍,包括产品介绍、产品收入和毛利率等

第9章:产业链分析、CMP抛光液和抛光垫下游不同应用销售额市场分析、销售渠道及主要客户分析等

第10章:报告研究结论

第11章:研究方法及数据来源

专精特新“小巨人”

专精特新“小巨人”企业细分市场占有率专项调研

全球CMP抛光液和抛光垫市场主要企业销售额排名及市场占有率

销售额 (百万美元)20202021202220232024
EntegrisXXXXXXXXXX
Resonac日立化成XXXXXXXXXX
Fujimi IncorporatedXXXXXXXXXX
DuPontXXXXXXXXXX
Merck KGaA (Versum Materials)XXXXXXXXXX
FujifilmXXXXXXXXXX
AGCXXXXXXXXXX
KC TechXXXXXXXXXX
JSR CorporationXXXXXXXXXX
安集微电子XXXXXXXXXX
SoulbrainXXXXXXXXXX
圣戈班XXXXXXXXXX
Ace NanochemXXXXXXXXXX
东进世美肯XXXXXXXXXX
Ferro (UWiZ Technology)XXXXXXXXXX
捷斯奥集团XXXXXXXXXX
SKCXXXXXXXXXX
上海新安纳电子科技有限公司XXXXXXXXXX
鼎龙控股XXXXXXXXXX
北京航天赛德科技发展有限公司XXXXXXXXXX
富士纺XXXXXXXXXX
3MXXXXXXXXXX
FNS TECHXXXXXXXXXX
智勝科技XXXXXXXXXX
TWI IncorporatedXXXXXXXXXX
KPX ChemicalXXXXXXXXXX
深圳市川研科技有限公司XXXXXXXXXX
宁波江丰电子材料股份有限公司XXXXXXXXXX
天津市海伦晶片技术开发有限公司XXXXXXXXXX
其他企业XXXXXXXXXX
合计XXXXXXXXXX


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中国CMP抛光液和抛光垫市场主要企业销售额排名及市场占有率

销售额 (百万美元)20202021202220232024
EntegrisXXXXXXXXXX
Resonac日立化成XXXXXXXXXX
Fujimi IncorporatedXXXXXXXXXX
DuPontXXXXXXXXXX
Merck KGaA (Versum Materials)XXXXXXXXXX
FujifilmXXXXXXXXXX
AGCXXXXXXXXXX
KC TechXXXXXXXXXX
JSR CorporationXXXXXXXXXX
安集微电子XXXXXXXXXX
SoulbrainXXXXXXXXXX
圣戈班XXXXXXXXXX
Ace NanochemXXXXXXXXXX
东进世美肯XXXXXXXXXX
Ferro (UWiZ Technology)XXXXXXXXXX
捷斯奥集团XXXXXXXXXX
SKCXXXXXXXXXX
上海新安纳电子科技有限公司XXXXXXXXXX
鼎龙控股XXXXXXXXXX
北京航天赛德科技发展有限公司XXXXXXXXXX
富士纺XXXXXXXXXX
3MXXXXXXXXXX
FNS TECHXXXXXXXXXX
智勝科技XXXXXXXXXX
TWI IncorporatedXXXXXXXXXX
KPX ChemicalXXXXXXXXXX
深圳市川研科技有限公司XXXXXXXXXX
宁波江丰电子材料股份有限公司XXXXXXXXXX
天津市海伦晶片技术开发有限公司XXXXXXXXXX
其他企业XXXXXXXXXX
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